Abstract
本发明涉及抛光领域,公开了一种流体线射流抛光装置及其应用方法,所述线射流喷嘴包括连接部、入口、壳体、汇集腔以及出口;其中,所述壳体设置在所述线射流喷嘴外部,所述汇集腔设置在所述线射流喷嘴内部,所述汇集腔的上部设有所述入口,所述入口处设有与所述高压抛光液供给系统相连的连接部,所述汇集腔的下部设有所述出口;所述出口的长度与宽度比值为2‑50;所述高压抛光液供给系统输出的高压抛光液通过所述入口,经所述汇集腔在所述出口喷射出高压高速的流体线性射流,产生比传统单射流抛光能量更高、比线性射流阵列抛光作用效果更加稳定的排线式射流。本发明设计合理、经济有效,在超精密抛光领域具有重要的推广应用价值。
Original language | Chinese (Simplified) |
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Patent number | ZL202010989012.7 |
Filing date | 18/09/20 |
Publication status | Published - 11 Jan 2022 |