Abstract
本發明涉及二維材料製備領域,具體涉及一種二維硒化銦晶體材料的製備方法。方法以短距離化學氣相沉積合成厘米級二維硒化銦晶體材料,以In 2 O 3和單質硒為靶材,得到β相二維硒化銦晶體材料;以In 2 O 3和InSe單質為靶材,得到β'相二維硒,晶體化銦晶體材料;以β'相增烷基體化物相增硒,相矽硒晶體基化物。本發明所提供的方法可實現大面積、高晶相純度的β、β'和α相二維硒化銦晶體材料的合成。實驗表明,該方法成功合成了厘米級純β、β'和α相二維硒化銦晶體材料,利用該材料製備的場效電晶體具有高性能,作為記憶儲存元件有潛力。
| Original language | Chinese (Simplified) |
|---|---|
| Patent number | ZL 202210617423.2 |
| Filing date | 1/06/22 |
| Publication status | Published - 2025 |
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